蒸鍍靶材真空鍍膜優(yōu)點和缺點

真空蒸發(fā)鍍膜通過蒸發(fā)源加熱蒸發(fā)某種物質(zhì)使其沉積在基板材料表面來獲得薄膜的一種技術(shù)。被蒸發(fā)的物質(zhì)被稱為蒸鍍材料。真空蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)由真空室、蒸發(fā)源或蒸發(fā)加熱裝置、放置基板及給基板加熱裝置。在真空中為了蒸發(fā)待沉積的材料，需要容器來支撐或盛裝蒸發(fā)物，同時需要提供蒸發(fā)熱使蒸發(fā)物達到足夠高的溫度以產(chǎn)生所需的蒸汽壓。不過真空鍍膜是存在優(yōu)點和缺點，下面我們來分析一下它們的特點。

1、真空鍍膜優(yōu)點

表面有較好的金屬質(zhì)感且細膩。

顏色較水電鍍可解決七彩色的問題如魔幻藍、閃銀燈；水電鍍顏色較單調(diào)，一般只有亮銀、亞銀等少數(shù)幾種。

基材材質(zhì)選用范圍廣，如PC、ABS、PMMA，（水鍍只能選擇ABS、ABS+PC）。

通過鍍銦錫可做成半透的效果，燈光可以從產(chǎn)品中發(fā)出來。

不污染環(huán)境。

2、真空鍍膜缺點

蒸鍍靶材受熔點限制，太高熔點的不易采用。

真空蒸鍍不過UV油，其附著力較差，要保證真空蒸鍍的附著力，均需后續(xù)進行特殊的噴涂處理。

真空鍍膜是真空應(yīng)用領(lǐng)域的一個重要方面，它是以真空技術(shù)為基礎(chǔ)，利用物理或化學方法，并吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術(shù)，為科學研究和實際生產(chǎn)提供薄膜制備的一種新工藝。簡單地說，在真空中把金屬、合金或化合物進行蒸發(fā)或濺射，使其在被涂覆的物體上凝固并沉積是真空鍍膜最常用的方法。